編號：NMJS05041
篇名：不同厚度二維VN插入層對TiSiN納米復合膜微觀結構和力學性能的影響
作者：薛增輝； 李偉； 劉平； 馬鳳倉； 劉新寬； 陳小紅； 何代華；
關鍵詞：TiSiN納米復合膜； VN插入層； 微觀結構； 力學性能；
機構： 上海理工大學機械工程學院； 上海理工大學材料科學與工程學院；
摘要： 采用TiSi復合靶與V靶,用射頻磁控濺射工藝在TiSiN納米復合膜中插入不同厚度的VN納米層,采用X射線衍射儀(XRD)、高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)和納米壓痕儀研究了VN插入層厚度對TiSiN納米復合膜的微觀結構和力學性能的影響。結果表明:當TiSiN納米復合膜中插入VN納米層厚度較小時,薄膜由納米復合結構轉變成納米多層結構,薄膜硬度降低。繼續(xù)增加VN層厚度,薄膜硬度隨之升高,在VN沉積層厚為0.5 nm時薄膜出現(xiàn)連續(xù)貫穿多層納米層、結晶度良好的柱狀晶,TiSiN層與VN層呈共格外延生長的結構,薄膜硬度達到37.2 GPa。隨著VN層厚的繼續(xù)增加,薄膜的共格外延生長結構消失,硬度下降。
