編號：CPJS02790
篇名：納米SnO2磨料的制備及其在釕化學(xué)機械拋光中的應(yīng)用（英文）
作者：儲向峰； 李秀金； 董永平； 喬紅斌； 白林山；
關(guān)鍵詞：納米二氧化錫； 磨料； 化學(xué)機械拋光； 釕；
機構(gòu)： 安徽工業(yè)大學(xué)；
摘要： 利用固相反應(yīng)法制備納米二氧化錫磨料并研究了制備條件對平均粒徑的影響。結(jié)果表明,在500℃/4h條件下制得的納米二氧化錫粉體在水中有良好的分散性和穩(wěn)定性。利用自制的拋光液對高純釕片進行化學(xué)機械拋光,與二氧化硅磨料拋光液比較,材料去除速率和表面粗糙度都降低。當(dāng)拋光液中含1%(質(zhì)量分數(shù),下同)二氧化錫、1%過硫酸銨、1%酒石酸和3mmol/L咪唑,pH=8.0,拋光壓力為17.24kPa時,材料去除速率(MRR)和表面粗糙度(Ra)分別為6.8nm/min和4.8nm。
