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PVA/CaF_2納米復(fù)合薄膜的合成、表征及光學(xué)性質(zhì)

編號(hào):NMJS05157

篇名:PVA/CaF_2納米復(fù)合薄膜的合成、表征及光學(xué)性質(zhì)

作者:王孝華; 聶興興;

關(guān)鍵詞:共沉淀; 納米顆粒; 納米復(fù)合材料; 表征; 光學(xué)性質(zhì);

機(jī)構(gòu): 重慶交通大學(xué)理學(xué)院;

摘要: 利用共沉淀法合成了CaF2納米顆粒(CaF2NPS),并利用不同量的CaF2NPS制備一系列的聚乙烯醇(PVA)/CaF2納米復(fù)合薄膜。采用X射線衍射法(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)對(duì)材料進(jìn)行表征,并利用紫外-可見光譜(UV)和熒光光譜(PL)對(duì)材料的光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了研究。結(jié)果表明:CaF2納米顆粒的形成與立方相有關(guān),晶粒尺寸大約在20~27 nm;CaF2納米顆粒均勻的分散在PVA膜表面;CaF2納米顆粒在約300 nm的邊緣有強(qiáng)烈的吸收,復(fù)合薄膜在200 nm和300 nm左右出現(xiàn)吸收帶;CaF2納米顆粒的PL譜在394 nm和790 nm附近有一系列的發(fā)射峰,復(fù)合薄膜的PL譜帶表明PVA的這3種(間規(guī)、無(wú)規(guī)、等規(guī))分子構(gòu)象的游離羥基中氧原子的2p2非鍵電子會(huì)發(fā)生n←π*電子躍遷。

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