編號：FTJS05193
篇名：氮氣流量對復(fù)合離子鍍TiAlN薄膜性能的影響
作者：薛利； 黃美東； 程芳； 劉野； 許世鵬； 李云珂；
關(guān)鍵詞：電弧離子鍍； 磁控濺射； TiAlN薄膜； 氮氣流量； 晶體結(jié)構(gòu)； 表面形貌； 硬度；
機(jī)構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與材料科學(xué)學(xué)院；
摘要： 利用電弧離子鍍和磁控濺射相結(jié)合的復(fù)合鍍技術(shù),在300 V偏壓、不同氮氣流量下制備了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2臺階儀、XRD、SEM和納米力學(xué)測試系統(tǒng)分別對薄膜的沉積速率、晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌、硬度和彈性模量等進(jìn)行測試和分析.實驗結(jié)果表明:隨著氮氣流量的增大,薄膜的表面質(zhì)量逐漸提高,薄膜的硬度和彈性模量均隨氮氣流量的增大呈現(xiàn)出先增加后減小的變化趨勢.
