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聚酰亞胺/二氧化硅雜化薄膜的制備與性能研究

編號:CPJS03618

篇名:聚酰亞胺/二氧化硅雜化薄膜的制備與性能研究

作者:韓文松;

關鍵詞:聚酰亞胺; 納米二氧化硅; 改性; 聚酰亞胺/二氧化硅雜化膜;

機構: 陜西理工學院材料科學與工程學院;

摘要: 首先將3-氨丙基三乙氧基硅烷接枝到納米二氧化硅表面,制得表面含有氨基的改性納米二氧化硅粒子(A—SiO2)。再將A—SiO2按不同比例與酐封端的聚酰胺酸進行反應,最后經(jīng)熱酰胺化過程,得到一系列聚酰亞胺/二氧化硅雜化膜。采用紅外光譜(FT-IR)、X-射線衍射(XRD)、紫外光譜(UV-vis)、熱重分析(TGA)、動態(tài)機械熱分析儀和掃描電鏡(SEM)對合成的聚酰亞胺及其二氧化硅雜化薄膜進行了表征。UV-vis光譜表明,通過向聚酰亞胺薄膜中添加A—SiO2可以改變聚酰亞胺薄膜的透光性。TGA測試結果表明,隨著A—SiO2含量的增加,聚酰亞胺/二氧化硅雜化薄膜的熱穩(wěn)定性有所提高。由機械性能測試可知,當A—SiO2摻雜量小于1.5%時,聚酰亞胺/二氧化硅雜化膜的機械性能優(yōu)于純聚酰亞胺的機械性能,當A—SiO2的摻雜量大于2.0%時,聚酰亞胺/二氧化硅雜化膜的機械性能比純聚酰亞胺的機械性能差。SEM分析可知當A—SiO2粒子含量小于1.5%時,其在聚酰亞胺基體中分散均勻,當含量大于2.0%時,體系出現(xiàn)明顯團聚現(xiàn)象。

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