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基底處理抑制成核生長大晶疇石墨烯的研究

編號:NMJS05507

篇名:基底處理抑制成核生長大晶疇石墨烯的研究

作者:白曉航; 郭磊; 王蘭喜; 曹生珠; 陳學康;

關鍵詞:化學氣相沉積; 抑制成核; 毫米石墨烯晶疇;

機構: 蘭州空間技術物理研究所真空技術與物理重點實驗室;

摘要: 電拋光及退火有效降低了銅箔表面的雜質及缺陷,將石墨烯成核密度降至約50個/cm2,制備了毫米尺寸晶疇的石墨烯連續(xù)膜。石墨烯連續(xù)膜中大部分區(qū)域是單層的,但有約20%的雙/多層區(qū)域。電性能的測量結果表明,通過增大石墨烯晶疇尺寸提高石墨烯連續(xù)膜的電性能是可行的。

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