編號：NMJS05508
篇名：石墨烯修飾碳糊電極循環(huán)伏安法測定銅離子
作者：馮鵬青； 焦晨旭； 郭凌雁； 戴虹；
關鍵詞：石墨烯； 化學修飾電極； 循環(huán)伏安法； 銅離子；
機構： 中北大學理學院；
摘要： 用石墨烯修飾碳糊電極,采用循環(huán)伏安法在BR緩沖溶液中測定Cu2+的電化學行為。研究了不同條件對Cu2+電化學測定的影響。實驗表明,石墨與石墨烯比例為8∶1,pH=3.5,掃描速度為100mV/s進行循環(huán)伏安法測定時,在0.136V左右處出現(xiàn)一個峰形較好的特征吸收峰;峰電壓與Cu2+濃度在5×10-8~1×10-4 mol/L范圍內呈良好的線性關系,相關系數(shù)為0.9905,檢出限為5.572×10-8 mol/L;連續(xù)測定兩周,電極表現(xiàn)出較好的穩(wěn)定性。
