編號:CPJS03764
篇名:復合改性水滑石的制備與表征
作者:楊文梅 ;鄔素華 ;張建超 ;郭曉靜
關鍵詞:水滑石 硅烷偶聯(lián)劑 有機陰離子 復合改性 柱撐水滑石
機構: 天津科技大學材料科學與化學工程學院
摘要: 采用十二烷基硫酸鈉(SDS)和叮一甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH570)對鎂鋁水滑石進行有機改性,得到插層改性和表面改性結合的復合改性水滑石。XRD、FTIR的分析結果表明:SDS已垂直插入水滑石層問,層間距達到2.72nm,KH570只覆蓋在水滑石表面,與層板表面羥基進行偶聯(lián)。通過控制離子交換反應條件,有機陰離子可以插入水滑石層間完全取代c0;一,反應生成的柱撐水滑石具有完整的層狀結構。