水熱法制備ZnS:Cu,Tm超細(xì)X射線發(fā)光粉

編號(hào)：FTJS00498

篇名：水熱法制備ZnS:Cu,Tm超細(xì)X射線發(fā)光粉

作者：新梅; 曹望和

關(guān)鍵詞：ZnS:Cu; Tm; 水熱法; X射線激發(fā)發(fā)光;

機(jī)構(gòu)： 大連民族學(xué)院理學(xué)院物理系; 大連海事大學(xué)光電子技術(shù)研究所;

摘要： 研究了水熱法合成的ZnS:Cu,Tm超細(xì)X射線發(fā)光粉及其光致發(fā)光(PL)和X射線激發(fā)發(fā)光(X-rayexcited luminescence,XEL)光譜特性.200℃水熱處理12h直接合成樣品的納米晶粒徑約15nm,尺寸分布窄,分散性好,具有純立方相的類球形結(jié)構(gòu).氬氣保護(hù)下900℃退火1h后的樣品存在一定的團(tuán)聚,但團(tuán)聚后尺寸為200—600nm,為超細(xì)X射線發(fā)光粉,此時(shí)樣品為純六方相的類球形為主的結(jié)構(gòu).所有樣品的PL和XEL光譜均為寬帶譜.水熱法直接合成樣品的XEL強(qiáng)度最強(qiáng)時(shí),樣品的Cu/Zn,Tm/Cu比值分別為3×10-4和2.在此比值條件下,900℃退火1h樣品的XEL發(fā)光最強(qiáng),此時(shí)其兩個(gè)峰值分別位于453,525nm.發(fā)光強(qiáng)度增強(qiáng)的同時(shí)粒徑很小,對(duì)提高成像系統(tǒng)分辨率非常有意義.通過比較PL光譜與XEL光譜特性,討論了PL和XEL光譜的發(fā)光機(jī)理和其不同的激發(fā)機(jī)理.