編號：NMJS05553
篇名：不同溶劑下制備B2 O3/SiO2納米復合材料對其室溫磷光的影響
作者：莊貞靜[1] ;肖丹[2]
關鍵詞：室溫磷光 二氧化硅 摻雜 硼
機構： [1]華僑大學分子藥物學研究院,福建泉州362021; [2]四川大學化學學院,四川成都610064
摘要： 本文通過對比不同溶劑制備的B2 O3/SiO2納米復合材料室溫磷光光譜，并結合FTIR及XRD的表征結果，研究溶劑對該材料磷光性能的影響。結果表明，不管用何種溶劑制備B2 O3/SiO2室溫磷光材料，均存在兩個磷光發(fā)射峰，一個是位于520-540nm之間，該發(fā)光可能是與氧化硼有關的二氧化硅雜質缺陷發(fā)光，另一個位于470-780nm處，該磷光峰推測是二氧化硅的結構缺陷發(fā)光。但是在制備過程中溶劑將影響氧化硼在二氧化硅結構中的摻雜，進而影響其發(fā)光中心的相對發(fā)光強度。
