編號：CPJS03957
篇名：二氧化硅粉體粒度對硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜制備的影響
作者：孔綱[1] ;張雙紅[1] ;孫子文[2] ;車淳山[1] ;盧錦堂[1]
關(guān)鍵詞：無機非金屬材料 硅酸鹽轉(zhuǎn)化膜 熱鍍鋅 硅酸鈉 二氧化硅
機構(gòu)： [1]華南理工大學(xué)材料學(xué)院; [2]廣東省計量科學(xué)研究院;
摘要： 用微米和納米粒度的SiO2粉體分別配制SiO2質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%、模數(shù)(SiO2/Na2O摩爾比)為3.50的硅酸鈉溶液,并用之浸泡熱鍍鋅鋼制備了硅酸鹽鈍化膜。用X射線衍射(XRD)、反射紅外光譜(RA-IR)分析二氧化硅粉體,用透射紅外光譜(FT-IR)和核磁共振(NMR)分析硅酸鈉溶液的結(jié)構(gòu),用原子力顯微鏡(AFM)、電化學(xué)阻抗譜(EIS)分析轉(zhuǎn)化膜的結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明:與微米級二氧化硅相比,納米級二氧化硅含有Si-OH鍵較多,用它配制的硅酸鈉溶液中硅酸負(fù)離子的聚合程度較低,成膜過程脫水量較多而生成微觀孔隙較多的轉(zhuǎn)化膜。
