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Si4+摻雜對(duì)Gd1.6 WO6:Eu^3+0.4支熒光粉發(fā)光特性的影響

編號(hào):FTJS06051

篇名:Si4+摻雜對(duì)Gd1.6 WO6:Eu^3+0.4支熒光粉發(fā)光特性的影響

作者:耿耀輝[1] ;徐生艷[2] ;張穎濤[1] ;袁虎臣[1] ;李嵐[2]

關(guān)鍵詞:GDL 6W06 Eu8^熒光粉 晶體對(duì)稱性 發(fā)光強(qiáng)度

機(jī)構(gòu): [1]天津理工大學(xué)理學(xué)院,天津300384; [2]天津理工大學(xué)材料物理研究所天津300384,天津300384;

摘要: 采用高溫固相法合成了不同Si^4+摻雜比例的Gd1.6(W1-xSix)O6:Eu^3+0.4熒光粉,分析了Si^4+。摻雜對(duì)Gd1.6 WO6:Eu^3+0.4熒光粉晶格結(jié)構(gòu)的影響,研究了不同Si^4+摻雜比例下的XRD譜、激發(fā)光譜、發(fā)射光譜和衰減曲線。結(jié)果發(fā)現(xiàn):Si^4+的摻雜改變了基質(zhì)的結(jié)構(gòu),使得激活劑離子Eu^3+周圍的晶體場改變,從而改變了熒光粉的發(fā)光效率,當(dāng)Si^4+的摻雜濃度達(dá)到0.4mol時(shí),晶體對(duì)稱性最差,粉體發(fā)光強(qiáng)度最大。根據(jù)發(fā)射光譜和衰減曲線計(jì)算了樣品的J-O強(qiáng)度參數(shù)和無輻射躍遷幾率,結(jié)果表明適量的Si^4+摻雜可以抑制無輻射躍遷,提高發(fā)光強(qiáng)度。計(jì)算結(jié)果與實(shí)驗(yàn)結(jié)果相符

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