編號(hào)：FTJS06066
篇名：XPS在YAG：Ce3＋熒光粉中Ce3＋半定量分析方面的應(yīng)用
作者：王廉明[1] ;莊李強(qiáng)[1] ;黃月霞[1] ;王德強(qiáng)[1]
關(guān)鍵詞：YAG:Ce3+熒光粉 半定量分析 發(fā)光強(qiáng)度 Ce抖相對(duì)含量 XPS
機(jī)構(gòu)： [1]華東理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,上海200237
摘要： 利用XPS測(cè)試方法對(duì)YAG：Ce3＋熒光粉中的Ce抖含量進(jìn)行了半定量分析，為研究Ce3＋含量與YAG：Ce3＋熒光粉發(fā)光強(qiáng)度的關(guān)系，在不同的燒結(jié)氣氛下制備了一系列YAG：Ce3＋熒光粉樣品。通過(guò)分峰擬合計(jì)算可知，在4種不同的制備條件下，Ce3＋的相對(duì)含量（fcc3＋，用Ce3＋峰面積與Ce3＋＋Ce4＋峰面積之比來(lái)估算）分別是88．46％，77．55％，75．33％和68．14％，所對(duì)應(yīng)的燒結(jié)氣氛依次為CO和N2的混合氣氛、CO氣氛、N2氣氛和空氣燒結(jié)氣氛。YAG：Ce3＋熒光粉的發(fā)光強(qiáng)度隨著Ce3＋相對(duì)含量的增加有顯著增強(qiáng)．
