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原子層沉積技術(shù)及其在粉體材料上的應(yīng)用進(jìn)展

編號(hào):FTJS06504

篇名:原子層沉積技術(shù)及其在粉體材料上的應(yīng)用進(jìn)展

作者:黃鈺 ;宋珂琛 ;馮昊

關(guān)鍵詞:原子層沉積 粉體材料 表面改性

機(jī)構(gòu): 西安近代化學(xué)研究所,西安710000

摘要: 原子層沉積技術(shù)因其具有精確的沉積厚度控制、良好的保形性、均勻性等特點(diǎn),已經(jīng)成為一項(xiàng)重要的薄膜沉積技術(shù)。而粉體材料作為材料的一種重要的表現(xiàn)形式,其改性技術(shù)對(duì)整個(gè)材料行業(yè)都具有重大意義。原子層沉積在粉體材料特別是納米粉體的表面改性方面也有其應(yīng)用。綜述了原子層沉積的原理及其在粉體材料處理方面的進(jìn)展。

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