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高頻等離子體法制備納米氧化錫

編號:NMJS05696

篇名:高頻等離子體法制備納米氧化錫

作者:高躍生 ;王翔

關鍵詞:高頻等離子體法 氧化錫 氣相冷凝 納米粉體

機構: 貴州正業(yè)工程技術投資有限公司,貴州貴陽550005

摘要: 采用高頻等離子體為熱源,以普通微米級氧化錫粉體為原料制備了高純氧化錫納米粉末。用X射線衍射儀、透射電鏡(TEM)和X射線小角散射法(SAXS)對高純氧化錫納米粉結構、形貌、粒度及其分布進行了表征;用BET吸附法測定其比表面積。結果表明:該氧化錫晶型為正方晶系,中位粒徑為16.7 nm,結果與SAXS和TEM測試結果吻合,制備的納米Sn O_2粒徑細、粒徑分布窄、結晶度完整。并探討了此方法的實驗機理。

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