鉍粉修飾碳糊電極循環(huán)伏安法測(cè)定EDTA的研究

編號(hào)：FTJS00639

篇名：鉍粉修飾碳糊電極循環(huán)伏安法測(cè)定EDTA的研究

作者：夏新泉; 陳靈; 王苗苗;

關(guān)鍵詞：鉍粉修飾碳糊電極; 循環(huán)伏安法; EDTA測(cè)定;

機(jī)構(gòu)： 湖北師范學(xué)院化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院;

摘要： 制備了鉍粉修飾碳糊電極,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),用此電極為工作電極時(shí),在0.1mol/L鹽酸溶液中,于0.0 V(vs.SCE)處富集2min,陰極化掃描,于-0.8V左右獲得一靈敏的不可逆還原峰。詳細(xì)研究了測(cè)定EDTA的測(cè)定條件,如介質(zhì)的選擇,富集電位,富集時(shí)間,掃描速度和修飾劑用量等。在選定的優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件下,峰電流與溶液的濃度在4.00×10-4~2.00×10-3mol/L范圍內(nèi)呈良好的線(xiàn)性關(guān)系,其線(xiàn)性回歸方程為ip=1.89×10-4~0.0521CEDTA(mol/L),相關(guān)系數(shù)為:r=0.9963,檢出限為1.30×10-4mol/L.