編號(hào)：NMJS05879
篇名：低比表面積納米二氧化硅的制備研究
作者：沈俊[1] ;趙燕[2]
關(guān)鍵詞：納米二氧化硅 低比表面積 乙硅烷 乙硅氧烷
機(jī)構(gòu)： [1]寧夏勝藍(lán)化工環(huán)保科技有限公司,寧夏石嘴山753200; [2]寧波大學(xué)建筑工程與環(huán)境學(xué)院,浙江寧波315211
摘要： 以含有Si-O-Si鍵及si—Si鍵的物質(zhì)為原料，采用氣相法制備低比表面積納米二氧化硅�？疾觳煌肿咏Y(jié)構(gòu)對(duì)最終樣品粒度、比表面積的影響。采用低溫氮吸附、納米粒度測(cè)試等手段對(duì)樣品進(jìn)行了表征。結(jié)果表明，si-O-si形式的分子結(jié)構(gòu)更有利于形成低比表面積的納米二氧化硅，分子中取代基團(tuán)對(duì)樣品孔特性及粒度也有明顯影響。
