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納米硒的制備及其光電性能

編號:CPJS04825

篇名:納米硒的制備及其光電性能

作者:王偉[1] ;黎燕[1] ;王蘇寧[1] ;鐘福新[1] ;朱義年[2] ;莫德清[3]

關(guān)鍵詞:納米硒 光電壓 電沉積

機構(gòu): [1]桂林理工大學化學與生物學院,廣西桂林541004; [2]桂林理工大學環(huán)境科學與工程學院,廣西桂林541004; [3]桂林電子科技大學生命與環(huán)境科學學院,廣西桂林541004

摘要: 以導電玻璃(ITO)為基底,采用電沉積法制備納米硒。在單一變量的基礎(chǔ)上結(jié)合正交試驗和響應(yīng)面試驗,探討了制備條件對納米硒光電壓的影響。結(jié)果表明:在沉積電壓1.7 V、沉積溫度30℃、沉積時間7 min、硫脲用量為1 mmol時,納米硒的光電壓值最高,達0.868 4 V;由紫外-可見吸收光譜測得其禁帶寬度Eg=1.84 e V;SEM分析發(fā)現(xiàn),納米硒呈棒狀及蓮花狀結(jié)構(gòu),棒直徑約為100 nm,長度為3-6μm;XRD表征結(jié)果顯示,納米硒主要為3種晶系的混晶系納米晶體,在2θ為37.188°、45.246°、60.324°處分別出現(xiàn)斜方晶系納米硒的(120)、(200)和(211)晶面,在2θ為30.141°、50.701°處分別出現(xiàn)六方晶系納米硒的〈101〉、{11-1}晶面,在2θ為35.522°處出現(xiàn)單斜晶系納米硒的[120]晶面,其中以〈101〉晶面和[120]晶面為擇優(yōu)生長取向。

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