編號(hào)：CPJS04872
篇名：銅鍍鎳基底生長(zhǎng)碳納米管薄膜場(chǎng)發(fā)射特性研究
作者：霍海波 ;麻華麗 ;楊衛(wèi)飛 ;陳雷明 ;丁佩 ;曾凡光
關(guān)鍵詞：碳納米管 銅鍍鎳 直流場(chǎng)發(fā)射
機(jī)構(gòu)： 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院
摘要： 采用化學(xué)鍍的方法在銅基底上鍍鎳作為緩沖層,以酞菁鐵（FePc）作為催化劑,采用CVD法在Cu/Ni基底上制備出了碳納米管薄膜（Cu/Ni-CNTs）,利用掃描電鏡（SEM）和拉曼光譜進(jìn)行了表征。為了測(cè)試在Cu/Ni基底上生長(zhǎng)碳納米管薄膜的場(chǎng)發(fā)射特性,采用二極管結(jié)構(gòu),在真空度為2×10-4 Pa下進(jìn)行直流場(chǎng)發(fā)射測(cè)試。結(jié)果表明Cu/Ni基底的碳納米管薄膜具有優(yōu)異的場(chǎng)發(fā)射特性,薄膜與陽(yáng)極距離為9mm時(shí)開(kāi)啟場(chǎng)強(qiáng)為1.44V/μm,場(chǎng)發(fā)射測(cè)試數(shù)據(jù)符合Fowler-Nordheim（F-N）場(chǎng)發(fā)射特性曲線,在相同高壓范圍（020kV）進(jìn)行多次重復(fù)測(cè)試,碳納米管薄膜具有良好的發(fā)射可重復(fù)性。
