編號(hào)：NMJS06033
篇名：電沉積法制備碳納米管／黑鎳復(fù)合涂層的光學(xué)與結(jié)構(gòu)特性
作者：鄒斯浩 ;辛世剛 ;宋力昕
關(guān)鍵詞：碳納米管 電沉積 復(fù)合涂層 太陽(yáng)吸收比
機(jī)構(gòu)： 中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所,特種無(wú)機(jī)涂層重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,上海200050
摘要： 利用復(fù)合電沉積的方法在鈦合金基體上成功制備出具有優(yōu)異光學(xué)性能的碳納米管／黑鎳復(fù)合涂層，并研究了復(fù)合涂層的微觀形貌、光學(xué)性能以及鍍液中碳納米管濃度和電鍍電流密度對(duì)光學(xué)性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：相較于傳統(tǒng)電鍍方法獲得的單一黑鎳涂層，復(fù)合涂層的晶粒尺寸明顯減小，形成多孔結(jié)構(gòu)，表面粗糙程度明顯增加。復(fù)合涂層對(duì)300～2300nm范圍內(nèi)的入射光吸收率達(dá)到98％左右，在2．5～20μm范圍內(nèi)的紅外吸收率達(dá)到94％，遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)單一黑鎳涂層。復(fù)合涂層的太陽(yáng)吸收比會(huì)隨著鍍液中碳納米管濃度與電鍍電流密度的增加呈先增大后減小的變化規(guī)律。
