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Ni-納米SiC復合鍍層的制備及其摩擦磨損性能

編號:CPJS05562

篇名:Ni-納米SiC復合鍍層的制備及其摩擦磨損性能

作者:吉文哲[1] ;王守忠[2]

關鍵詞: 脈沖電沉積 Ni-納米SiC復合鍍層 工藝參數(shù) 硬度 耐磨性

機構: [1]商丘職業(yè)技術學院汽車建筑工程系,河南商丘476000; [2]商丘職業(yè)技術學院生物工程系,河南商丘476000

摘要: 為提高Ni.SiC復合鍍層的耐磨性,采用脈沖電沉積的方法,在Q235鋼表面上制備了Ni-納米SiC復合鍍層,利用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、顯微硬度計及摩擦磨損試驗機等分析了單個工藝條件對Ni-SiC復合鍍層顯微硬度和耐磨性的影響規(guī)律,觀察、測試、比較了純Ni鍍層和Ni-SiC復合鍍層的表面形貌和摩擦磨損性能。結果表明:隨著納米SiC粒子濃度在3~13g/L范圍內(nèi)逐漸增大,鍍層的硬度先升高后降低,磨損量逐漸下降;隨著平均電流密度在1—6A/dm2之間逐漸增加,鍍層的硬度先升高而后下降,磨損量先減少后增加;隨著占空比在10%~60%范圍內(nèi)逐漸增加,鍍層的硬度逐漸下降,磨損量逐漸升高。純鎳鍍層組織較疏松,晶粒比較粗大,當SiC濃度為9g/L、電流密度為dA/dm2、占空比為10%時,Ni-SiC復合鍍層組織致密,SiC粒子分布均勻,其磨損量相對純鎳鍍層減少了4倍以上。

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