編號(hào)：NMJS06444
篇名：金屬納米薄膜在石墨基底表面的動(dòng)力學(xué)演化
作者：李艷茹[1] ;何秋香[1] ;王芳[1] ;向浪[1] ;鐘建新[1,2] ;孟利軍[1,2]
關(guān)鍵詞： 分子動(dòng)力學(xué)模擬 納米薄膜 石墨 納米液滴
機(jī)構(gòu)： [1]湘潭大學(xué)物理與光電工程學(xué)院,湘潭411105; [2]微納能源材料與器件湖南省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,湘潭411105
摘要： 采用分子動(dòng)力學(xué)方法研究了金屬Au和Pt納米薄膜在石墨（烯）基底表面的動(dòng)力學(xué)演化過程,探討了金屬薄膜和石墨（烯）基底間的相互作用對(duì)金屬納米薄膜在固態(tài)基底表面的去濕以及脫附的動(dòng)力學(xué)演化的影響.研究結(jié)果表明,在高溫下,相同層數(shù)的Au和Pt納米薄膜在單層石墨基底表面上存在不同的去濕現(xiàn)象,主要表現(xiàn)為厚度較小的Pt納米薄膜在去濕過程中有納米空洞形成,而同樣厚度的Au薄膜在去濕過程中沒有形成空洞.Au和Pt兩種金屬薄膜在高溫下都去濕形成納米液滴,這些液滴最終都以一定的速度脫離基底.在模擬的薄膜厚度范圍內(nèi)（0.2—2.3 nm）,Au和Pt納米液滴脫離基底的速度隨厚度增加表現(xiàn)出不同的變化規(guī)律.Pt納米液滴的脫離速度隨薄膜初始厚度的增加先增加后減少,而Au脫離速度隨厚度的增加先減少,達(dá)到一個(gè)臨界厚度后脫離速度突然迅速增加.利用薄膜與基底間相互作用的不同導(dǎo)致去濕過程中的黏滯耗散不同,定性分析了這種變化規(guī)律的原因.此外,進(jìn)一步研究還發(fā)現(xiàn)金屬液滴的脫離時(shí)間與薄膜厚度和模擬溫度的依賴關(guān)系,發(fā)現(xiàn)脫離時(shí)間隨薄膜厚度的增加而增加,隨模擬溫度的升高而減小.這些研究結(jié)果可以為金屬鍍膜、浮選、表面清潔、器件表面去濕等工業(yè)生產(chǎn)過程提供理論指導(dǎo).
