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電沉積制備氧化石墨烯-羥基磷灰石復(fù)合涂層

編號(hào):FTJS07021

篇名:電沉積制備氧化石墨烯-羥基磷灰石復(fù)合涂層

作者:曾永香 賀瑞 裴錫波 田玲钖 王劍 萬乾炳

關(guān)鍵詞: 電沉積 氧化石墨烯 羥基磷灰石 復(fù)合涂層

機(jī)構(gòu): 四川大學(xué)口腔疾病研究國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 杭州師范大學(xué)附屬醫(yī)院口腔科 四川大學(xué)華西口腔醫(yī)院修復(fù)科

摘要: 采用電沉積方法在鈦表面制備氧化石墨烯-羥基磷灰石(Graphene oxide/Hydroxyapatite,GO/HA)復(fù)合涂層,通過調(diào)整GO的濃度,研究GO對(duì)所得涂層晶體結(jié)構(gòu)及生物學(xué)性能的影響。采用掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)、X射線衍射(XRD)儀、傅里葉變換紅外光譜(FTIR)、拉曼光譜分析所得涂層的表面形貌和物相構(gòu)成,用SEM觀察涂層表面MG63成骨樣細(xì)胞生長情況。結(jié)果表明,電沉積法可在鈦表面制備GO/HA復(fù)合涂層,且隨GO濃度增加,HA結(jié)晶度增加。此外,復(fù)合涂層較單純HA涂層更能促進(jìn)成骨樣細(xì)胞早期粘附。

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