編號(hào)：CPJS06175
篇名：納米SiO2對(duì)Zn-Ni/納米SiO2復(fù)合鍍層性能的影響
作者：劉軍松 吳汯翰 劉定富 葉濤 張厚
關(guān)鍵詞： 納米SIO2 Zn-Ni/納米SiO2復(fù)合鍍層 耐蝕性
機(jī)構(gòu)： 貴州大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院
摘要： 先通過赫爾槽試驗(yàn)優(yōu)化了乙酸鹽體系電鍍Zn-Ni合金的基礎(chǔ)鍍液配方,得到了全光亮的赫爾槽試片;再向基礎(chǔ)鍍液中添加納米SiO2,通過單因素試驗(yàn)研究了納米SiO2的質(zhì)量濃度對(duì)Zn-Ni/納米SiO2復(fù)合鍍層的孔隙率及耐蝕性的影響。結(jié)果表明:當(dāng)納米SiO2的質(zhì)量濃度為8g/L時(shí),Zn-Ni/納米SiO2復(fù)合鍍層的孔隙率最低,耐蝕性最好。
