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氫氧化鈉刻蝕多孔陽極氧化鋁制備氧化鋁納米柱及其疏水性能

編號:FTJS07148

篇名:氫氧化鈉刻蝕多孔陽極氧化鋁制備氧化鋁納米柱及其疏水性能

作者:陳新華 馬永梅

關鍵詞: 多孔氧化鋁膜 化學蝕刻 納米柱 納米柱團簇

機構(gòu): 許昌學院化學化工學院 中國科學院化學研究所中國科學院綠色印刷重點實驗室

摘要: 以多孔陽極氧化鋁為原料,用Na OH溶液進行化學腐蝕,控制適當?shù)臈l件得到氧化鋁納米柱和納米柱團簇結(jié)構(gòu)。利用掃描電子顯微鏡對其結(jié)構(gòu)進行觀察。結(jié)果表明,獨立納米柱直徑約100 nm,高約100~250 nm;納米柱團簇是由直徑約100 nm、高約1μm的納米柱組成,團簇之間間距約1~2μm。該結(jié)構(gòu)的表面和光滑氧化鋁表面、多孔陽極氧化鋁(納米孔洞結(jié)構(gòu))表面分別修飾氟硅烷后,氧化鋁納米柱束團簇結(jié)構(gòu)表面對水的接觸角高達155°,比光滑表面(101°)和納米孔洞結(jié)構(gòu)表面(144°)都要高。

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