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基于脈寬參量的TiN納米晶薄膜制備及其性能

編號:CPJS06248

篇名:基于脈寬參量的TiN納米晶薄膜制備及其性能

作者:喬泳彭 蔣百靈 丁郁航 張靜

關(guān)鍵詞: 脈寬參量 TIN薄膜 納米晶 微觀結(jié)構(gòu) 力學性能

機構(gòu): 西安理工大學

摘要: 采用大功率脈沖濺射離子鍍技術(shù)在不同脈寬條件下制備了一組TiN離子鍍層,并通過XRD、SEM、AFM等手段對膜層的微觀形貌、生長模式及相關(guān)力學性能進行了分析研究。結(jié)果表明:隨著脈寬的增大,TiN膜層的瞬時沉積速率提高,膜層內(nèi)部的晶化程度逐漸增強,薄膜晶粒尺寸有所增大,微觀形貌顯示為較典型的TiN(111)三角錐形以及柱狀生長,顆粒尺寸及表面粗糙度均隨脈寬的延長而增大,膜層整體無明顯孔隙等缺陷存在。通過對H/E值的分析可以看出,較小脈寬條件下制備的膜層綜合性能較好、可以獲得較高的膜層硬度以及較大的硬度-模量比。

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