編號(hào)：NMJS07171
篇名：低溫一步制備氧化石墨烯及微波還原研究
作者：宇文超 劉秉國(guó) 張立波 郭勝惠 彭金輝
關(guān)鍵詞： 氧化石墨烯 缺陷 低溫 微波
機(jī)構(gòu)： 昆明理工大學(xué)冶金與能源工程學(xué)院 云南省特種冶金重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 昆明理工大學(xué)非常規(guī)冶金省部共建教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
摘要： 以天然鱗片石墨為原料,通過低溫一步氧化制備氧化石墨烯,經(jīng)微波熱還原得到低缺陷的還原氧化石墨烯。討論了低溫氧化過程中氧化劑用量、氧化時(shí)間對(duì)氧化石墨烯層間距、氧化程度的影響。結(jié)果表明:在高錳酸鉀與天然鱗片石墨的質(zhì)量比為1∶3,氧化溫度為0℃,氧化時(shí)間為48h的條件下,制備出碳氧原子比為1.98、高C—O結(jié)構(gòu)、低缺陷結(jié)構(gòu)( I D∶ I G=0.63)的氧化石墨烯,避免了Hummers制備過程中由于CO 2的形成導(dǎo)致六元環(huán)斷裂以及碳原子的缺失而使得氧化石墨烯的缺陷增加;經(jīng)微波熱還原后,得到的還原氧化石墨烯的兩點(diǎn)平均缺陷距離 L D=12nm,缺陷密度 n D=2.21×10 11 cm -2 , I D∶ I G僅為0.85(Γ G=32.1cm -1 ),制備出低缺陷的還原氧化石墨烯。
