編號(hào)：NMJS07224
篇名：激光功率密度對(duì)相同曝光量下氧化石墨烯還原的影響
作者：謝磊 雷小華 譚小剛 劉顯明 鄧益俊 陳偉民
關(guān)鍵詞： 碳納米材料 激光功率密度 光照還原 氧化石墨烯 透過(guò)率 電阻率
機(jī)構(gòu)： 重慶大學(xué)光電工程學(xué)院光電技術(shù)及系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
摘要： 采用488nm連續(xù)激光在相同曝光量條件下對(duì)氧化石墨烯樣品進(jìn)行光照還原實(shí)驗(yàn),并通過(guò)透射率和電阻率來(lái)表征還原氧化石墨烯的性質(zhì).結(jié)果表明:在還原過(guò)程中,通過(guò)透過(guò)率和電阻率表征的還原程度呈現(xiàn)相同的變化趨勢(shì).此外,還原過(guò)程分為兩個(gè)步驟:達(dá)到相對(duì)穩(wěn)定狀態(tài)之前和達(dá)到相對(duì)穩(wěn)定狀態(tài).在達(dá)到相對(duì)穩(wěn)定狀態(tài)之前,激光功率密度越低,樣品的還原程度越高;但當(dāng)達(dá)到相對(duì)穩(wěn)定的狀態(tài)后,激光功率密度越高,樣品的還原程度越高.基于rGO中含氧官能團(tuán)的變化,通過(guò)光子穿透能力和光對(duì)rGO的帶隙調(diào)制作用對(duì)這一現(xiàn)象進(jìn)行了分析.
