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基于化學(xué)氣相沉積技術(shù)的粉體石墨烯的制備及能源領(lǐng)域應(yīng)用

編號(hào):NMJS07309

篇名:基于化學(xué)氣相沉積技術(shù)的粉體石墨烯的制備及能源領(lǐng)域應(yīng)用

作者:慈海娜 孫靖宇

關(guān)鍵詞: 化學(xué)氣相沉積 直接生長(zhǎng) 粉體石墨烯 能源應(yīng)用

機(jī)構(gòu): 蘇州大學(xué)能源學(xué)院

摘要: 化學(xué)氣相沉積技術(shù)(chemical vapor deposition,CVD)因其產(chǎn)物設(shè)計(jì)性強(qiáng)、反應(yīng)途徑靈活、層數(shù)均勻可控、襯底種類多樣、批量化高品質(zhì)制備等特點(diǎn)而廣受關(guān)注.本文以CVD制備石墨烯為出發(fā)點(diǎn),歸納利用模板法和非模板法合成具有特定形貌的高品質(zhì)粉體石墨烯材料,其具有高電導(dǎo)率、大比表面積和良好的分散性.進(jìn)一步地,基于CVD方法合成的粉體石墨烯,對(duì)其在能量存儲(chǔ)領(lǐng)域的應(yīng)用展開(kāi)闡述.CVD技術(shù)所制備的粉體石墨烯在儲(chǔ)能應(yīng)用領(lǐng)域中展現(xiàn)出的巨大潛力,使其有望成為助力高能量長(zhǎng)循環(huán)儲(chǔ)能器件的理想材料.

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