編號(hào)：NMJS07679
篇名：以水楊酸為模板分子的Nd摻雜分子印跡TiO2的制備及光催化性能
作者：占昌朝 曹小華 金文雄 葉志剛 謝寶華 徐建興 周榮輝
關(guān)鍵詞： 分子印跡 釹(Ⅲ) 二氧化鈦 水楊酸 模板分子 光催化 溶膠-凝膠法 紫外光 可見(jiàn)光
機(jī)構(gòu)： 九江學(xué)院化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院 江西省生態(tài)化工工程技術(shù)研究中心
摘要： 以水楊酸(SA)為模板分子,鈦酸四丁酯為鈦源,硝酸釹為摻雜劑,采用溶膠-凝膠法,在不同焙燒溫度和不同Nd摻雜量下制備了一系列Nd摻雜分子印跡TiO2(NMT)光催化劑。采用XRD、SEM、TEM、ICP-AES、EDS、XPS、FT-IR、N2吸附-脫附(BET模型)、紫外-可見(jiàn)漫反射光譜(UV-Vis DRS)等手段對(duì)產(chǎn)物進(jìn)行了表征,并以光催化降解SA為指針?lè)磻?yīng),考察了Nd摻雜量、焙燒溫度、SA溶液初始pH值對(duì)產(chǎn)物光催化活性的影響。結(jié)果表明,NMT為單一銳鈦礦相,孔道結(jié)構(gòu)的形成是晶粒堆積孔和模板劑脫除所致。相比非印跡TiO2和未摻雜的分子印跡TiO2,NMT對(duì)模板分子降解反應(yīng)的光催化活性大大提高,且當(dāng)n(Nd)∶n(TiO2)=0.30%、550℃熱處理2 h時(shí)光催化活性最佳:紫外光下其作為光催化劑可以得到86.4%的降解率(SA模擬廢水初始濃度為20 mg/L、初始pH=4,降解反應(yīng)時(shí)間為70 min),重復(fù)使用四次降解率仍保持在83.02%;可見(jiàn)光(λ>400 nm)下可以得到97.96%的降解率(SA模擬廢水初始濃度為20 mg/L、初始pH=4,降解反應(yīng)時(shí)間為30 h)。
