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介質(zhì)阻擋放電-光催化處理含低濃度甲苯廢氣的研究

編號:FTJS08059

篇名:介質(zhì)阻擋放電-光催化處理含低濃度甲苯廢氣的研究

作者:汪凡

關(guān)鍵詞: 甲苯 介質(zhì)阻擋放電 光催化 二氧化鈦 揮發(fā)性有機(jī)物

機(jī)構(gòu): 中煤科工集團(tuán)西安研究院有限公司

摘要: 以含低濃度甲苯氣體為處理對象,采用管線式反應(yīng)器,用鍍有TiO2納米膜的陶瓷環(huán)作為填料,進(jìn)行介質(zhì)阻擋放電-光催化法處理甲苯的試驗研究。通過改變電壓、光催化劑、入口濃度、氣體流量、相對濕度等反應(yīng)器運行條件,總結(jié)了影響甲苯降解效率和副產(chǎn)物臭氧產(chǎn)生的因素及其作用機(jī)制。結(jié)果表明,提高電場強(qiáng)度、延長停留時間和降低初始濃度可提高甲苯的去除率;相對濕度為28%~35%時對甲苯去除較有利;加入TiO2催化劑可以降低臭氧產(chǎn)生率。

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