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TNAs的制備條件及可見光下GQDs/TNAs復合材料的性能初探

編號:CYYJ02174

篇名:TNAs的制備條件及可見光下GQDs/TNAs復合材料的性能初探

作者:曹浩 陸金仁 李偉琪 包木太 李一鳴 馬威伊

關鍵詞: 二氧化鈦納米管 石墨烯量子點 催化 電泳 降解

機構: 中國海洋大學化學化工學院

摘要: 采用陽極氧化法制備了二氧化鈦納米管陣列(TNAs),探索了制備條件對TNAs表面形貌結(jié)構的影響;并采用電泳法制備了石墨烯量子點/二氧化鈦納米管陣列(GQDs/TNAs)復合材料,以羅丹明B為目標降解物,初步考察了復合材料的光催化性能;進而通過X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜(XPS)、拉曼光譜、紫外-可見漫反射(UV-visDRS)、電化學阻抗(EIS)和光電壓響應等手段對其結(jié)構和光電學特征進行了分析。結(jié)果表明,氧化次數(shù)和電解液類型對TNAs排列的有序性具有顯著影響,二次氧化時間、二次陽極電壓和NH4F質(zhì)量分數(shù)對TNAs的管長、管徑具有明顯影響;適宜條件下GQDs的摻雜有助于提升TNAs的光催化性能,經(jīng)120min的可見光照射后,制備的GQDs/TNAs復合材料對羅丹明B的降解率達到70.3%,較TNAs提高了19.7%,且具有良好的穩(wěn)定性;光電學測試同樣表明該GQDs/TNAs復合材料的光吸收效率和光電子轉(zhuǎn)移能力較TNAs有明顯提高。

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