編號：CYYJ02341
篇名：鉻過渡層對氮化鉻/鎂合金膜基界面結(jié)合強度的影響
作者：劉瑞霞 郭鋒 韓海鵬
關(guān)鍵詞： 鎂合金 磁控濺射 氮化鉻膜 鉻過渡層 膜基結(jié)合強度
機構(gòu)： 內(nèi)蒙古鄂爾多斯職業(yè)學(xué)院機電工程系 內(nèi)蒙古自治區(qū)涂層與薄膜重點實驗室 內(nèi)蒙古工業(yè)大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
摘要： 為了提高磁控濺射氮化鉻膜與鎂合金基底的結(jié)合強度,在兩者之間以不同工藝濺射沉積鉻過渡層,分析并討論了鉻過渡層對膜基界面結(jié)合強度的影響及其機制。結(jié)果表明,在鎂合金/氮化鉻之間增加鉻過渡層可提高表征膜基結(jié)合強度的膜層破裂臨界載荷,且當鉻過渡層的濺射工藝為濺射功率100 W、負偏壓30 V、基底溫度25℃、濺射時間4 min時膜層破裂臨界載荷最大,此工藝下鉻過渡層表面在微觀上具有最大的粗糙度和最小的突起間隔;鉻過渡層增強界面結(jié)合的作用主要表現(xiàn)為改善了氮化鉻與鎂合金基底之間的結(jié)合狀況,與鉻/氮化鉻接界面積較大且能有效機械互鎖、鉻過渡層緩減了界面應(yīng)力等機制有關(guān)。
