編號(hào)：CYYJ02361
篇名：Cr–C/h-BN 自潤(rùn)滑復(fù)合鍍層的制備與摩擦學(xué)性能
作者：沈玲莉 陸寶山 季業(yè)益 關(guān)集俱
關(guān)鍵詞： 鉻−碳合金 六方氮化硼 復(fù)合鍍層 電沉積 自潤(rùn)滑 摩擦磨損
機(jī)構(gòu)： 蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院機(jī)電工程系 蘇州工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院精密制造工程系
摘要： 在三價(jià)鉻Cr–C鍍液中添加1~5 g/L的h-BN自潤(rùn)滑微粒,運(yùn)用直流電沉積技術(shù)在Q235碳素結(jié)構(gòu)鋼基體上制備了Cr–C/h-BN復(fù)合鍍層。利用掃描電鏡(SEM)、X射線衍射儀(XRD)、顯微硬度計(jì)、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)等設(shè)備分析了h-BN微粒添加量、電流密度等工藝參數(shù)對(duì)鍍層組織和性能的影響。結(jié)果表明:在電流密度20 A/dm2,h-BN添加量3 g/L的條件下,可獲得h-BN微粒體積分?jǐn)?shù)為6.15%的復(fù)合鍍層。h-BN微粒的添加改善了Cr–C合金鍍層的耐磨性,Cr–C/h-BN復(fù)合鍍層在室溫干摩擦條件下的磨損率減少了22%,平均摩擦因數(shù)由原先的0.49降低至0.31。
