編號(hào)：FTJS08549
篇名：MACE法制備多孔硅的形貌及光致發(fā)光性能
作者：張藝 端木慶鐸
關(guān)鍵詞： 金屬輔助化學(xué)腐蝕(MACE) 多孔硅 形貌 光致發(fā)光 發(fā)光強(qiáng)度
機(jī)構(gòu)： 長(zhǎng)春理工大學(xué)理學(xué)院
摘要： 采用金屬輔助化學(xué)腐蝕(MACE)法,通過(guò)控制不同的腐蝕時(shí)間制備出多孔硅。利用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察多孔硅形貌,分析結(jié)果表明,隨著腐蝕時(shí)間的增加,硅表面腐蝕孔洞變大,孔洞深度增加,同時(shí)孔洞深度的增加速率隨之變緩。采用325 nm He-Cd激光光源的熒光光譜儀進(jìn)行光致發(fā)光測(cè)試,研究在325 nm的激發(fā)光下不同腐蝕時(shí)間多孔硅的發(fā)光性能。發(fā)光強(qiáng)度與多孔硅的腐蝕時(shí)間及形貌有關(guān),腐蝕時(shí)間延長(zhǎng),多孔硅形貌改變,多孔硅的發(fā)光強(qiáng)度先增加后減少。腐蝕20 min時(shí)多孔硅的發(fā)光強(qiáng)度最大,比腐蝕5 min時(shí)增加了74%,發(fā)光峰位基本不發(fā)生變化。多孔硅光致發(fā)光性能的研究可為各種基于多孔硅光電器件的研究提供一定的參考。
