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高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定含釕單晶高溫合金中的銦及釕干擾的消除

編號(hào):NMJS08048

篇名:高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定含釕單晶高溫合金中的銦及釕干擾的消除

作者:陳靖 張艷 龐曉輝 高頌

關(guān)鍵詞: 高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜法 銦 釕 鉬 質(zhì)譜干擾 含釕單晶高溫合金

機(jī)構(gòu): 中國航發(fā)北京航空材料研究院 航空材料檢測與評(píng)價(jià)北京市重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 中國航空發(fā)動(dòng)機(jī)集團(tuán)材料檢測與評(píng)價(jià)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

摘要: 建立了高分辨電感耦合等離子體質(zhì)譜法(HR-ICP-MS)測定含釕單晶高溫合金中銦含量的方法,并研究了銦測定時(shí)可能存在的質(zhì)譜干擾。鉬的氧化物離子對(duì)113In的質(zhì)譜干擾很嚴(yán)重;釕的氧化物離子對(duì)115In有一定程度的干擾,但其產(chǎn)生的干擾量與釕在樣品中的含量呈線性關(guān)系,可通過建立的校正方程扣除,故選擇115In作為銦檢測同位素。0.1 g樣品中加入體積比為3∶1的鹽酸-硝酸混合溶液9 mL和氫氟酸1 mL,在80℃下常壓消解60 min,用水稀釋至250 mL,用HR-ICP-MS在低(分辨率為300)、中(分辨率為4 000)、高(分辨率為10 000)等3種分辨率模式下測定115In含量,用高純鎳的消解液配制的標(biāo)準(zhǔn)溶液系列制作標(biāo)準(zhǔn)曲線。銦的質(zhì)量分?jǐn)?shù)在2μg·g-1以內(nèi)與其對(duì)應(yīng)的響應(yīng)值呈線性關(guān)系,檢出限(3s)分別為0.002μg·g-1(低分辨率),0.004μg·g-1(中分辨率)和0.009μg·g-1(高分辨率)。對(duì)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)(GBW 01636)進(jìn)行分析,測定值與認(rèn)定值基本一致。對(duì)樣品進(jìn)行加標(biāo)回收試驗(yàn),所得回收率為76.0%-90.0%,測定值的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(n=5)均小于3.0%。

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