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無氫硅烷常壓化學氣相沉積SiOx薄膜在晶體硅太陽能電池制造中的應用

編號:CYYJ01725

篇名:無氫硅烷常壓化學氣相沉積SiOx薄膜在晶體硅太陽能電池制造中的應用

作者:趙毅

關鍵詞: 無氫硅烷 SIOX薄膜 晶體硅太陽能電池

機構: 山西興新安全生產(chǎn)技術服務有限公司

摘要: 提出SiOx薄膜沉積在成本效益高的實驗室規(guī)模三維打印常壓化學氣相沉積裝置,研究了鍍層的完整性、與各種表面的一致性以及處理后的回彈性,并討論了常壓化學氣相沉積(APCVD)法制備的薄膜。研究表明,在不同的應用中,常壓化學氣相沉積法制備的薄膜在鈍化發(fā)射體的正面和背面太陽能電池上起到保護寄生電鍍的作用。

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