編號(hào)：NMJS08192
篇名：等離子體化學(xué)氣相沉積法制備致密性超浸潤(rùn)納米硅氟薄膜
作者：呂偉桃 毛靜靜 梁宸 李嘉惠 莫德禧 元德侃
關(guān)鍵詞： 等離子體 化學(xué)氣相沉積法 硅烷 致密性 硅氟薄膜
機(jī)構(gòu)： 佛山市思博�？萍加邢薰�
摘要： 以含氟丙烯酸酯功能單體和硅烷為原料、無水乙醇為溶劑、氬氣為工藝氣體,經(jīng)等離子體化學(xué)氣相沉積在表面絕緣阻抗(SIR)測(cè)試板和無塵布上制得硅氟薄膜。探討了硅烷種類和用量、含氟單體用量對(duì)鍍硅氟薄膜試件性能的影響。結(jié)果表明,采用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH 570)、γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH 550)和乙烯基三甲氧基硅烷(A171)的鍍硅氟薄膜SIR測(cè)試板的靜態(tài)水接觸角分別為136.0°、135.6°和135.7°,摩擦200次后分別下降了7.5°、10.2°和11.9°,通電時(shí)間分別為30 min、5 min和3 min,表面粗糙程度逐漸降低;隨著KH 570用量由0.2份增加到5份,鍍硅氟薄膜SIR測(cè)試板的通電時(shí)間從8 min逐漸延長(zhǎng)至33 min;隨著含氟單體用量從78份升至93份,鍍硅氟薄膜無塵布的靜態(tài)水接觸角從126°升至154°。硅烷選擇KH 570較佳,KH 570的較佳用量為2份,含氟丙烯酸酯功能單體的較佳用量為90份,此時(shí)鍍硅氟薄膜SIR測(cè)試板的靜態(tài)水接觸角為136.0°,通電時(shí)間為30 min。
