編號(hào)：CYYJ02888
篇名：AlCl3-[EMIM]Cl離子液體中鑄鐵表面電沉積耐蝕鋁涂層研究
作者：李園園 王錦霞 謝宏偉 尹華意 宋秋實(shí)
關(guān)鍵詞： 鑄鐵 鋁涂層 AlCl3-[EMIM]Cl離子液體 電極過(guò)程 腐蝕 電流密度 沉積時(shí)間
機(jī)構(gòu)： 東北大學(xué)冶金學(xué)院 東北大學(xué)理學(xué)院
摘要： 為了闡明鑄鐵表面耐腐蝕鋁涂層的電化學(xué)沉積機(jī)理,在AlCl3-[EMIM]Cl離子液體中,采用循環(huán)伏安法和計(jì)時(shí)電流法分別研究了鑄鐵表面鋁電化學(xué)涂層沉積電極過(guò)程和形核生長(zhǎng)機(jī)制。通過(guò)恒電流密度法電沉積制備鋁涂層。利用交流阻抗、極化曲線和鹽霧試驗(yàn)研究電流密度和沉積時(shí)間對(duì)沉積鋁涂層鑄鐵耐蝕性能的影響。結(jié)果表明:鋁在鑄鐵表面的析出過(guò)電位小,幾乎為零;沉積受傳質(zhì)過(guò)程控制,形核符合三維瞬時(shí)成核機(jī)制;沉積鋁涂層的鑄鐵自腐蝕電位較純鑄鐵的負(fù)移、且腐蝕電流明顯變小。沉積電流密度是影響鑄鐵耐腐蝕能力的決定性因素,電流密度增大,鑄鐵耐蝕性能提高,當(dāng)電流密度達(dá)到30 mA/cm2時(shí),沉積鋁涂層的鑄鐵腐蝕電流較鑄鐵基體降低了1個(gè)數(shù)量級(jí)。當(dāng)沉積時(shí)間為20 min時(shí),晶粒小且耐蝕性優(yōu)良。
