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原位電化學(xué)氧化還原制備高性能表面增強(qiáng)拉曼散射銀納米顆粒薄膜

編號(hào):NMJS08626

篇名:原位電化學(xué)氧化還原制備高性能表面增強(qiáng)拉曼散射銀納米顆粒薄膜

作者:雷浩 李艷 郭孟偉 張啟波

關(guān)鍵詞: 電化學(xué)氧化還原 銀納米顆粒 多孔薄膜 表面增強(qiáng)拉曼散射性能

機(jī)構(gòu): 昆明理工大學(xué)冶金與能源工程學(xué)院離子液體冶金實(shí)驗(yàn)室 哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)深圳市柔性印刷電子技術(shù)研究中心 昆明理工大學(xué)云南省復(fù)雜有色金屬資源清潔利用國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

摘要: 在適當(dāng)p H范圍的堿性溶液中,通過施加氧化還原電位實(shí)現(xiàn)光滑Ag基體原位轉(zhuǎn)化為納米多孔結(jié)構(gòu),此納米多孔結(jié)構(gòu)由平均尺寸為21.88nm的Ag納米顆粒(AgNPs)組成。系統(tǒng)研究電化學(xué)氧化還原調(diào)控制備AgNPs電極過程中Ag基體的物相和形貌演化過程:在可控氧化還原電位的作用下,光滑Ag基體首先被電化學(xué)氧化為Ag2O,引起晶胞體積膨脹,隨后電化學(xué)還原生成金屬Ag,伴隨體積收縮。晶胞體積在可逆電化學(xué)轉(zhuǎn)化過程中的膨脹和收縮導(dǎo)致Ag基體表面原位形成高孔隙結(jié)構(gòu)。采用該方法制備的AgNPs電極呈現(xiàn)優(yōu)異的表面增強(qiáng)拉曼散射性能,將其作為襯底檢測(cè)羅丹明6G溶液時(shí),拉曼光譜檢測(cè)限可低至5.44×10-10mol/L。

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