編號(hào)：FTJS09669
篇名：物理氣相沉積制備高熵氮化物涂層的進(jìn)展
作者：程馳 郭朝乾 李海慶 李劍微 曲帥杰 張程 林松盛
關(guān)鍵詞： 高熵氮化物涂層 物理氣相沉積 磁控濺射 電弧離子鍍 力學(xué)性能 綜述
機(jī)構(gòu)： 廣東工業(yè)大學(xué)機(jī)電工程學(xué)院 廣東省科學(xué)院新材料研究所
摘要： 從體系和沉積方法入手,分析了強(qiáng)氮化金屬元素體系、弱氮化金屬元素體系及含非金屬元素體系在結(jié)構(gòu)上的特性和共性給高熵氮化物涂層性能帶來(lái)的影響,闡述磁控濺射和電弧離子鍍膜技術(shù)沉積涂層的表面形貌、微觀結(jié)構(gòu)及性能方面的差異性,并分別總結(jié)這些制備技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)。最后對(duì)高熵氮化物涂層體系在結(jié)構(gòu)成分設(shè)計(jì)和沉積方法兩方面未來(lái)的研究方向進(jìn)行了展望。
