編號：CYYJ03307
篇名：氮化硼對電火花強(qiáng)化鈦合金強(qiáng)化層的影響
作者：丁磊 李敏 張桐
關(guān)鍵詞： 混粉準(zhǔn)干式 電火花 粉末介質(zhì) 強(qiáng)化層
機(jī)構(gòu)： 天津職業(yè)技術(shù)師范大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院 天津市高速切削與精密加工重點實驗室
摘要： 為探究氮化硼對鈦合金強(qiáng)化層組織與性能的影響,通過在準(zhǔn)干式工作介質(zhì)中混入單一粉末BN及混合粉末BN+Al,采用混粉準(zhǔn)干式電火花表面強(qiáng)化技術(shù)對TC4鈦合金進(jìn)行表面強(qiáng)化。對不同強(qiáng)化工藝參數(shù)下的強(qiáng)化層微觀組織形貌、裂紋分布、表面粗糙度及顯微硬度等進(jìn)行分析。結(jié)果表明:2種粉末條件下生成的強(qiáng)化層微觀組織形貌均呈放射型花瓣狀,且裂紋在強(qiáng)化層表面具有類似的分布特點,但BN+Al粉末條件下獲得的強(qiáng)化層更加平整致密,且裂紋數(shù)量及延展長度都明顯下降;強(qiáng)化層表面顯微硬度較原始TC4鈦合金相比均有大幅提高,當(dāng)峰值電流為8.2 A時,添加BN和BN+Al的2種粉末條件下獲得的強(qiáng)化層顯微硬度分別達(dá)到1695.2 HV和1722.4 HV�；旌戏勰〣N+Al介質(zhì)下獲得的強(qiáng)化層微觀形貌比單一粉末BN條件下獲得的強(qiáng)化層微觀形貌更加平整致密,微裂紋的數(shù)量和延展長度明顯減少。
