編號：FTJS09780
篇名：單晶金剛石異質(zhì)外延用銥復合襯底研究現(xiàn)狀
作者：屈鵬霏 金鵬 周廣迪 王鎮(zhèn) 許敦洲 吳巨 鄭紅軍 王占國
關鍵詞： 金剛石 銥復合襯底 半導體 異質(zhì)外延 偏壓增強成核 微波等離子體化學氣相沉積
機構(gòu)： 中國科學院半導體研究所 中國科學院大學材料與光電研究中心
摘要： 金剛石優(yōu)異的物理性質(zhì)使其成為下一代最有發(fā)展?jié)摿Φ陌雽w材料之一。目前來看,基于微波等離子體化學氣相沉積的異質(zhì)外延可能是未來制備大尺寸單晶金剛石的最佳方法。在過去的三十年間,銥復合襯底上異質(zhì)外延生長單晶金剛石取得了一定進展,特別是近幾年實現(xiàn)了2英寸(1英寸=2.54 cm)以上的大尺寸自支撐單晶金剛石的生長。本文總結(jié)了金剛石異質(zhì)外延用的襯底,簡要介紹了異質(zhì)襯底上的偏壓增強成核,詳細介紹了目前最成功的銥/氧化物、銥/氧化物層/硅復合襯底,最后對金剛石異質(zhì)襯底和異質(zhì)外延進行了總結(jié),指出目前存在的問題并給出了一些可能的解決思路。
