編號：FTJS09904
篇名：沉淀法去除鉬酸鈉溶液中磷和硅試驗研究
作者：高志強 任倩
關鍵詞： 沉淀法 鉬酸鈉溶液 磷、硅去除率 鉬損失率
機構： 成都虹波實業(yè)股份有限責任公司 成都鼎泰新材料有限責任公司
摘要： 采用沉淀法去除鉬酸鈉溶液中的雜質(zhì)磷和硅,研究了沉淀劑種類、溶液pH值、時間、溫度等條件對P、Si雜質(zhì)去除率及除雜過程中Mo損失率的影響,結果表明:以氯化鎂為沉淀劑時,除P率最高可達到92.9%,除Si率83.2%,因生成的鎂鹽呈膠體狀態(tài),具有吸附鉬酸鈉的能力,導致Mo損失率高達4.8%。直接以CaCl2為沉淀劑,鈣離子會同時與P、Si、Mo形成沉淀,導致P、Si去除率不理想且Mo損失率高達20.88%。將鉬酸鈉氧化為過氧鉬酸鈉后,再采用CaCl2作為沉淀劑,可實現(xiàn)P、Si去除率均高于97.9%,Mo損失率低于0.25%。最佳工藝參數(shù)為:料液pH值8~10,沉淀劑用量系數(shù)為2,反應溫度24~45℃,反應時間90~120 min。
