編號：FTJS09911
篇名：電沉積法制備鉬涂層的研究進展
作者：吳向陽 白書欣 王震 朱利安 葉益聰 李順 唐宇
關鍵詞： 鉬涂層 電沉積 熔鹽 水溶液 支持電解質(zhì) 鉬酸鹽 研究進展
機構： 國防科技大學空天科學學院
摘要： 鉬涂層具有高溫強度高、耐腐蝕性好與抗輻照能力強等優(yōu)異的理化性能,在冶金、航空航天和核工業(yè)等領域具有良好的應用前景。本文梳理了鉬涂層的主要制備方法,包括熱噴涂、物理氣相沉積與電沉積等,比較了不同制備方法的優(yōu)缺點。著重介紹了熔鹽和水溶液電沉積鉬涂層的研究現(xiàn)狀。對比了活性鹽、支持電解質(zhì)和添加劑對熔鹽電沉積工藝及鉬涂層質(zhì)量的影響。目前,鉬酸鹽-氟化物-氧化物熔鹽體系制備的鉬涂層綜合性能最好。水溶液電沉積的制備溫度低,適用性廣,但面臨析氫難以抑制和MoO42-對pH值敏感等問題,導致鉬涂層與界面結(jié)合弱。
