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氮化鎵基Micro-LED側(cè)壁對外量子效率的影響及側(cè)壁處理技術(shù)綜述

編號:FTJS10230

篇名:氮化鎵基Micro-LED側(cè)壁對外量子效率的影響及側(cè)壁處理技術(shù)綜述

作者:鄺海 黃振 熊志華 劉麗

關(guān)鍵詞: 側(cè)壁缺陷 微發(fā)光二極管 外量子效率 載流子 側(cè)壁鈍化

機構(gòu): 江西科技師范大學(xué)江西省光電子與通信重點實驗室

摘要: 氮化鎵基Micro-LED具備高亮度、高響應(yīng)頻率、低功耗等優(yōu)點,是未來顯示技術(shù)和可見光通信系統(tǒng)的理想選擇,但是目前外量子效率(EQE)低下這一問題嚴重影響其規(guī);慨a(chǎn)及進一步應(yīng)用。為了突破EQE低下這一瓶頸,通過分析Micro-LED外量子效率的影響因素,得知EQE下降的主要原因包括側(cè)壁缺陷引起的載流子損耗及非輻射復(fù)合?偨Y(jié)了側(cè)壁缺陷對載流子輸運及復(fù)合的影響。綜述了目前常用的側(cè)壁處理技術(shù)及修復(fù)方法,指出現(xiàn)有側(cè)壁處理方法較為籠統(tǒng)、針對性不足且載流子與側(cè)壁缺陷的作用機理并不十分清楚。提出應(yīng)深入系統(tǒng)地研究側(cè)壁缺陷種類和分布、載流子與側(cè)壁缺陷作用機制及側(cè)壁處理過程中的缺陷修復(fù)模式。本文為提高外量子效率、加快Micro-LED商業(yè)化量產(chǎn)進程提供設(shè)計思路和理論依據(jù)。

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