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銦離子總濃度對銦錫氧化物(ITO)粉末粒徑的影響

編號:FTJS01152

篇名:銦離子總濃度對銦錫氧化物(ITO)粉末粒徑的影響

作者:陳林; 肖素萍; 劉悅; 文忠和; 王獻忠; 向蕓; 張西玲; 宋杰光;

關鍵詞:ITO; 絡鹽法; 納米粉末; 絡離子;

機構(gòu): 萍鄉(xiāng)高等?茖W;瘜W工程系; 九江學院機械與材料工程學院;

摘要: 以純銦、SnCl4·5H2O為原料,采用絡鹽法制備了納米晶的銦錫氧化物(ITO)粉末。通過對銦錫復合絡合鹽(NH4)1.91(In0.91Sn0.09)Cl5·?H2O的制備研究,充分證實了反應初始溶液中絡離子的存在。研究了銦離子總濃度對ITO粒徑的影響,結(jié)果表明:由于絡離子的存在控制了游離In3+的濃度,從而可以在一定濃度范圍內(nèi)增加銦離子總濃度而達到提高產(chǎn)量的目的。通過XRD和激光粒度儀對ITO粉末進行了表征。

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