編號(hào)：NMJS09151
篇名：CdS/石墨烯納米復(fù)合光催化劑的可控合成及其性能研究
作者：王涵 任志龍 徐龍 張記霞 朱超勝
關(guān)鍵詞： 多級(jí)中空結(jié)構(gòu) CDS 石墨烯 可控合成 光腐蝕 光催化劑 協(xié)同效應(yīng)
機(jī)構(gòu)： 包頭輕工職業(yè)技術(shù)學(xué)院 周口師范學(xué)院
摘要： 光催化技術(shù)是一種在能源和環(huán)境領(lǐng)域有著重要應(yīng)用前景的綠色技術(shù)。為提高光催化效率,利用簡(jiǎn)單的“自下而上”法合成了尺寸可控,具有中空內(nèi)核且核與殼之間有一定間隙層的中空蛋黃殼結(jié)構(gòu)型CdS/石墨烯復(fù)合光催化劑Hollow CdS@void@GR。采用多晶粉末X-射線衍射儀(XRD),掃描電鏡(SEM),透射電鏡(TEM),傅立葉變換紅外光譜儀(FT-IR)和比表面積測(cè)定(BET)表征樣品的晶體結(jié)構(gòu)、微觀形貌、元素組成和孔結(jié)構(gòu)。采用光催化降解羅丹明B(RhB),采用紫外-可見(jiàn)漫反射光譜儀(DRS)和電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP)測(cè)定Cd2+濃度,分析該材料的光催化性能及抗光腐蝕性能。結(jié)果表明:Hollow CdS@void@GR的結(jié)構(gòu)大小可通過(guò)PS模板大小、S/Cd比例、超聲反應(yīng)時(shí)間及TEOS量進(jìn)行調(diào)控。在強(qiáng)光照射下,由于多級(jí)中空結(jié)構(gòu),中空CdS內(nèi)核與中空GR外殼之間的協(xié)同效應(yīng),Hollow CdS@void@GR納米復(fù)合材料表現(xiàn)出較強(qiáng)的光催化活性、優(yōu)異的光催化穩(wěn)定性和良好的抗光腐蝕作用。
