国产在线 | 日韩,疯狂做受xxxx高潮不断,影音先锋女人aa鲁色资源,欧美丰满熟妇xxxx性大屁股

資料中心

釕表面上錫及其氧化污染物的原位清洗研究

編號(hào):FTJS106561

篇名:釕表面上錫及其氧化污染物的原位清洗研究

作者:彭怡超 葉宗標(biāo) 王思蜀 蒲國(guó) 韋建軍 芶富均

關(guān)鍵詞: 錫及其氧化污染物 氫等離子體 釕 原位清洗

機(jī)構(gòu): 四川大學(xué)原子核科學(xué)技術(shù)研究所 四川大學(xué)原子與分子物理研究所

摘要: 本文介紹了在多層反射鏡釕表面原位清洗錫及其氧化污染物的實(shí)驗(yàn)研究.實(shí)驗(yàn)通過(guò)物理氣相沉積(PVD)方法制備顆粒狀和薄膜狀錫及其氧化污染物,并采用朗繆爾探針和減速場(chǎng)離子能量分析儀(RFEA)對(duì)不同功率的氫等離子體進(jìn)行了系統(tǒng)分析.對(duì)比顆粒狀和薄膜狀錫及其氧化污染物的清洗速率后發(fā)現(xiàn),顆粒狀污染物頂部的清洗速率最高,其平均清洗速率次之,而薄膜狀污染物的清洗速率最低.XPS結(jié)果表明經(jīng)過(guò)低功率(1 W)等離子體清洗后,錫氧鍵斷裂并發(fā)生了化學(xué)還原過(guò)程.掃描電鏡截面圖像顯示低功率清洗后底部的薄膜厚度增加,指明清洗過(guò)程中的再沉積現(xiàn)象.TRIM模擬說(shuō)明高功率(10 W)下氫注入深度超過(guò)釕膜厚度,而低功率(1 W)下氫注入深度小于釕膜厚度.釕膜的粗糙度在1 W照射10 h后仍保持穩(wěn)定.在化學(xué)還原和刻蝕過(guò)程中,氫離子和氫自由基分別起到斷裂化學(xué)鍵和反應(yīng)物的作用.根據(jù)上述結(jié)果推斷,低功率(1 W)氫等離子體可實(shí)現(xiàn)對(duì)錫及其氧化污染物的無(wú)損原位清洗。

最新資料
下載排行

關(guān)于我們 - 服務(wù)項(xiàng)目 - 版權(quán)聲明 - 友情鏈接 - 會(huì)員體系 - 廣告服務(wù) - 聯(lián)系我們 - 加入我們 - 用戶反饋