編號：FTJS106578
篇名：兩電子水氧化反應抑制摻硼金剛石電極氧化有機物過程中氯酸鹽和高氯酸鹽的生成
作者：丁嘉 吳文琦 李鵬程
關鍵詞： 電化學 電解 廢水 降解 摻硼金剛石電極 氯酸鹽 高氯酸鹽
機構(gòu)： 上海市政工程設計研究總院（集團）有限公司 浙江大學環(huán)境與資源學院 國家電網(wǎng)杭州供電公司
摘要： 硼摻雜金剛石(BDD)電極以其高效生成羥基自由基(· OH)和高穩(wěn)定性的優(yōu)點，在難降解有機污染物的處理中得到了廣泛的應用。然而，氯酸鹽(ClO3 -)和高氯酸鹽(ClO4 -)是含氯介質(zhì)電解過程中產(chǎn)生的有毒副產(chǎn)物，是 BDD 電極應用的主要障礙之一。結(jié)果表明，NaHCO3的存在有效地促進了2e-WOR 產(chǎn)生 H2O2，降低了活性氯酸鹽(AC)、 ClO3-和 ClO4-的濃度。在10mmol/L NaHCO3存在下，AC 濃度降低了60.3% ，ClO3-和 ClO4-的抑制率分別為10.2% 和39.2% 。添加50mmol/L 和100mmol/L 的 NaHCO3可使 ClO3積累率分別降低60.0% 和72.50% ，ClO4積累率分別降低66.2% 和72.60% 。2e-WOR 抑制 ClO3-和 ClO4-的機理如下。首先，由2e-WOR 產(chǎn)生的 H2O2通過與 AC 反應降低了關鍵中間體 AC 的濃度，從而降低了 ClO3-和 ClO4-的濃度。其次，HCO-3與 ClO3-競爭 · OH，降低了 ClO3-轉(zhuǎn)化為 ClO4-的速率。適當濃度的 NaHCO3有利于 ATZ 的降解，在10mmol/L 和50mmol/L NaHCO3存在下，NaHCO3的添加量分別提高了27.2% 和53.8% ，清除實驗表明，NaHCO3的添加有利于 ATZ 在均相溶液中的降解。
